第84章奖励光刻机制造技术[2/2页]

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    大不了我们自己做！

    这样的说法是很硬气，但是有点过于想当然尔。

    这是因为这个利用光学投影原理对硅片进行印刷的技术要求有非常高的精度和准确度，真的可以说是失之分毫差之千里。

    而现在我们国家自主的技术也只能在极限状态下达到之前主流的7nm级别。

    目前种花家国内在光刻机领域做得比较好的是魔都微电子装备和中科院的某个研究所，它们目前还停留在90nm研发产品阶段。

    而阿斯麦尔7nm的光刻机已经实现量产，当然这并不代表国产光刻机没有超越的机会！

    国产光刻机其实只要在某些关键技术上取得突破，就算得上是弯道超车了！

    就好比阿斯麦尔在光刻机“侵入式光刻技术”上领先全球一样。

    没有这项关键性技术。

    就无法制造更顶级的光刻机，所以目前只有阿斯麦尔才有资格制造顶级光刻机。

    在几十年前，我国就对光刻机的重要性和战略性进行过确认！

    但由于我国科技工业落后，在1977年才研发出gk3型接触式光刻机，与当时的1:1投影光刻机和分步投影光刻机存在不小的差距。

    而asml的崛起改变了现有光刻机的格局，不仅赶超了尼康、佳能这两大光刻机巨头，还抢占了不少市场份额！

    而我国光刻机本来就与西方存在一些差距，而asml的出现拉大我国光刻机的距离，再加上政策扶持减少，和西方技术封锁，导致国产光刻机面临困境。

    其实这些是可以克服的。但难以克服的还是有趣而残酷的摩尔定律！

    摩尔定律被科学界尊为计算机第一定律，大概指的就是：集成电路上可以容纳的晶体管数目在大约每经过24个月便会增加一倍。换言之，处理器的性能每隔两年翻一倍。

    比如在电子产品行业中，有一句话叫做“买新不买旧”，为什么？

    因为现在电子产品的更新换代实在是太快了！以手机为例，芯片升级的速度非常快！

    这也就是为什么，去年的手机今年就落后了，前年的手机今年就要淘汰。

    但这个定律不仅注定了电子产品更新的速度很快，也同样指出一个残酷的事实：西方半导体技术发展飞快，我们可能真的难以追赶！

    再比如种花家就在全力追赶突破14nm光刻机的时候，asml却突然宣布：已完成1nm光刻机设计，虽然商业化计划在2022年左右。但asml的进度却再一次惊讶了全球科技界，他们将“摩尔定律”发展到极致，同时也让种花家这位竞争对手“感到绝望”。

    asml完成1nm光刻机设计，也正意味着他们即将再次突破自己达到的光刻机天花板！

    咱们呢？

    还在为了14nm光刻机而奋斗，如果要形象的比喻我们和asml的差距，我想他们应该是25岁的青壮年，但咱们还是蹒跚学步的小孩童。

    而根据摩尔定律来看。

    就算咱们在两年后突破到14nm、7nm，可人家已经有了3nm甚至是1nm光刻机。

    那再过两年、四年之后呢？

    客观来讲，咱们如果要实现追赶，就必须要突破“摩尔定律”的速度！

    我们要做的不仅仅是发展光刻机，要做到的其实是快速发展光刻机！这虽然很难。

    可咱们的科研团队又何尝不是一直在创造奇迹？

    从两弹一星到北斗导航！

    从被鹰酱拒绝加入国际空间站，到咱们自主研发的天宫空间站进入太空，并投入使用！

    西方认为的各种“不可能”都被我们变成了可能！

    那下一个10年的“种花速度”会出现在光刻机领域吗？

    楚凡的出现，将改变这一切！

    从此以后。

    种花家也将拥有属于自己的高端光刻机！

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